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ラベル 日本電子ACT社 の投稿を表示しています。 すべての投稿を表示
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2010/12/13

ACT社ブータン向け受注

・2010 12 :
ACT-WEBより
弊社は株式会社エル光源(東京都江戸川区 取締役社長 清瀬慶太)と共同でブータン王国の無電化地域向けに大容量キャパシタ「プレムリス Premlis A5000」を蓄電部に採用した可搬式ソーラーLED照明灯などを220セット受注しました。今般の資金はアジア開発銀行(ADB)が策定したアジアクリーンエネルギー基金(AEFC)より提供され、ブータン王国各地の学校、病院やその他の公共施設に配置されます。
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2010/10/06

ACTと早稲田大LIC-PVに関する新型PCS共同研究開始

2010 09 早稲田大学 環境総合研究センターと共同でNEDO新エネルギーベンチャー技術革新事業に応募し採択されました。開発テーマは「リチウムイオンキャパシタを適用した太陽光発電の出力安定化に関する技術開発」。今後導入拡大が予想される太陽光発電の系統連携の課題を解決する新型PCSの開発を目指します。期間は2010年8月~2011年7月の一年間です。
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2010/06/11

ACT、Liイオン・キャパシタの量産工場を披露2010/05/18 18:14吉田 勝=日経ものづくり

ACTの本社工場。下2階が工場に、3階が事務所になっている。

アドバンスト・キャパシタ・テクノロジーズ(ACT、本社東京都昭島市)は、立ち上げ中のLiイオンキャパシタ(LIC)の新工場を披露した。本社建屋の1~2階が工場となっており、現在はLICセル「Premlis」の本格量産に向けて試験稼働に入っている。同社は、2010年3月までは親会社である日本電子の本社昭島製作所内を拠点としていたが、同年4月に同製作所近くの現在の場所に本社を移転していた。

 ACTは、2009年8月に第三者割当増資を実施しており、双日と太陽誘電から出資を受けてPremlisの量産体制を整えると発表していた。新工場では、それぞれ静電容量が5000F、2000F、1000Fの「A5000」「A2000」「B1000」の3タイプのPremlisを生産する。設備の生産能力は2万セル/月で、2010年度下期からの本格量産を始める計画だ。従業員数は、出資先からの常駐者と派遣を含めて40人程度。生産設備は性能評価装置を除けばほぼ整っており、すでにサンプル出荷用のPremlisの製造が始まっている。


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2008/12/14

日本電子とACTがリチウムイオン・キャパシタを発売、重量エネルギ密度が30Wh/kgと高い(2008/12/08)


http://eetimes.jp/article/22624/
リチウムイオン・キャパシタ「Premlis A5000」
 日本電子とアドバンスト・キャパシタ・テクノロジーズ(ACT)は、静電容量が5000F、蓄電容量が8.3Whと大きいリチウムイオン・キャパシタ「Premlis A5000」の出荷を開始した。正極にACTが開発した「ナノゲートカーボン」、負極にリチウムイオンを添加した黒鉛系カーボンを用いたことで、エネルギ密度を30Wh/kgと、電気2重層コンデンサ(スーパーキャパシタ)の5倍程度まで大きくできたと主張する。

 大電流を出力するよりもエネルギ密度を高めることに適した設計を採った。このため、例えば太陽光発電装置と組み合わせて自立動作させる街灯システムなどに向ける。このほかUPS(無停電電源装置)や携帯型機器の電源としても利用できるとした。

 外形寸法は100×100mm。厚さと重量は顧客が必要とする蓄電容量とエネルギ密度によって個別に変更するとした。等価直列抵抗(ESR)は5mΩ、動作電圧は2~4Vである。動作温度範囲は-30~60℃。価格は2万5000円。2009年度中には月産2万個の量産体制を整えるとした。

 同時に、静電容量が2000Fの「Premlis A2000」、同1000Fの「Premlis B1000」、Premlis A5000を12個内蔵した容量100Whの大型モジュールなどの出荷も開始した。

(畑陽一郎:EE Times Japan)



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2008/06/11

6月5日特許公開:特開2008-127232 水素化非多孔性炭の製造方法

公開日 2008-06-05 出願人 アドバンスト・キャパシタ・テクノロジーズ株式会社 (504216723)
東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 発明者 竹内 誠
東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 アドバンスト・キャパシタ・テクノロジーズ株式会社内

要約
【課題】炭素材料を構成する、マルチグラフェンの末端にアロマティックリングプロトン(炭素骨格に直接結合した水素)を多く残し、カルボン酸残基を極力生成させないような水素化非多孔性炭の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の水素化非多孔性炭の製造方法は、(a)多層グラフェン微結晶が発達した易黒鉛化炭を650~900℃で乾留し、か焼炭を得る工程と、(b)得られた、か焼炭を苛性アルカリと共に800~900℃でアルカリ賦活する工程と、(c)アルカリ賦活された、か焼炭を空気中の酸素に触れることなく、500℃以下で水蒸気処理する工程と、(d)次いで、残存するアルカリを除去して非多孔性炭を得る工程と、(e)得られた非多孔性炭を、水素を含む還元性雰囲気中で、650~900℃で処理し、水素化非多孔性炭を得る工程と、を有することを特徴とする。

詳細は、http://www.ultra-patent.jp/DataView/FullText2.aspx


ここにはトップやアーカイブページで省略される(記事単独ページでだけ表示される)文章を書きます。


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